ABSEM 200 氬離子束場發射掃描電子顯微鏡，作為一款創新的多功能樣品制備和分析系統，突破性地將寬束氬離子槍集成于掃描電鏡的樣品室內，成功實現了離子束原位拋光以及高分辨電子束成像分析的無縫銜接，無需繁瑣的樣品轉移流程極大地提升了分析效率。 ABSEM 200 所搭載的寬離子束技術，具備強大的處理能力，能夠輕松應對毫米級的大尺寸樣品，極大地拓寬了其應用范圍。掠射角的設計可以有效降低在處理過程中對樣品造成的損傷，確保了樣品的完整性和原始狀態。納米級層切模塊能夠精準控制去層厚度，且擁有雜屑捕獲裝置確保系統穩定運行，有效避免了雜屑對實驗的干擾和潛在風險。 ABSEM 200 氬離子束場發射掃描電子顯微鏡特別適用于環境敏感或結構復雜的樣品，為用戶提供了一種高效精確的樣品表征解決方案。

產品優勢

高分辨成像分析：1.0nm@15KV，1.5nm@1KV

大面積樣品處理：最大可達10mm

高精度層切控制：納米級壓電臺，最小步進8nm

高效率原位拋光：集成式設計，無需真空轉移

優秀的電子光學設計

穩定的離子加工系統

高精度擋板層切模塊

優秀的雜屑捕獲裝置

產品參數

離子光學系統

離子束能量范圍：0.5KV—5KV

離子束束流：10—500μA

束斑直徑：0.3—10mm

氣體類型：氬氣

常用工作氣壓：5e—5mbar

入射角度：3—9°

離子束加工樣品尺寸和要求

樣品尺寸：≤12mm×12mm×5mm

樣品重量：≤300g

層切范圍：≤200μm

層切步進：≥8nm

電子光學系統

電子槍類型：高亮度肖特基場發射電子槍

加速電壓：0.02—30KV

電子束流：1pA—20nA（100nA選配）

放大倍率：1—2,000,000X

分辨率：1.0nm@15KV（SE），1.5nm21KV（SE）

探測器

標配：樣品室內二次電子探測器；鏡筒內二次電子探測器；

選配：標準背散射電子探測器；低壓背散射電子探測器

樣品室

倉庫：內徑340mm，高度260mm；全自動雜屑捕獲裝置；多附件接口，可加裝EBSD、EDS，等離子清洗機等多種附件

樣品臺：X、Y=125mm，Z=50mm，R=360°連續，T=-5~70℃

影像系統：光學導航、樣品室內監控、氬離子束監控

軟件及圖像處理

語言：中文/英文，可定制其他語言

操作系統：Windows

圖像分辨率：512*512-16K*16K

自動功能：自動聚焦、自動亮度對比度等

參數推薦：預設常用材料拋光參數

其他功能：分屏顯示、圖像注釋和測量、圖像混合、大面積圖像采集和拼接等